Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography

by Seongbo Shim, Youngsoo Shin

Cham: Springer International Publishing, Imprint: Springer, 2018

Online Monographie, Elektronische Ressource - 1 Online-Ressource (XIV, 138 p. 92 illus., 54 illus. in color)

Zugriff:

Springer Chemistry & Materials Science 2018 (Volltext)

Titel:	Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography
Verantwortlichkeitsangabe:	by Seongbo Shim, Youngsoo Shin
Autor/in / Beteiligte Person:	Shim, Seongbo ; Shin, Youngsoo
Lokaler Link:	Springer Chemistry & Materials Science 2018 (Volltext)
Link:	Volltext
Verwandtes Werk:	NanoScience and Technology
Veröffentlichung:	Cham: Springer International Publishing, Imprint: Springer, 2018
Medientyp:	Monographie
Datenträgertyp:	Elektronische Ressource
Umfang:	1 Online-Ressource (XIV, 138 p. 92 illus., 54 illus. in color)
ISBN:	9783319762944
DOI:	10.1007/978-3-319-76294-4
Schlagwort:	Materials science Nanoscale science Nanoscience Nanostructures Semiconductors Nanotechnology Electronic circuits Optical materials Electronic materials
Sonstiges:	Online-Ressource [Kann nicht per Fernleihe bestellt werden!] Gesamttitelangabe: NanoScience and Technology Erscheint auch als: Druck-Ausgabe, ISBN 9783319762937 hbz Verbund-ID: HT019641151

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